KRI 射頻離子源輔助沉積鍍制385nm紫外帶通濾光片

時(shí)間：2024-01-10作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：56

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

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  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)E-Beam 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)用于在半導(dǎo)體, 光學(xué), **導(dǎo)材料等行業(yè)的研究與生產(chǎn), 比如基片蒸發(fā)沉積金屬, 導(dǎo)電薄膜, 半導(dǎo)體薄膜, 鐵電薄膜, 光學(xué)薄膜和介質(zhì)材料.E-Beam 鍍膜機(jī)設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子, 進(jìn)樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái), 工作氣

• HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機(jī)

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  HVA真空閥門用于太陽(yáng)能電池生產(chǎn)?太陽(yáng)能電池又稱為 ”太陽(yáng)能芯片” 或 ”光電池”, 是一種利用太陽(yáng)光直接發(fā)電的光電半導(dǎo)體薄片. 它只要被滿足一定照度條件的光照到, 瞬間就可輸出電壓及在有回路的情況下產(chǎn)生電流. 在物理學(xué)上稱為太陽(yáng)能光伏（Photovoltaic, 縮寫為PV）, 簡(jiǎn)稱光伏.太陽(yáng)能電池是通過(guò)光電效應(yīng)或者光化學(xué)效應(yīng)直接把光能轉(zhuǎn)化成電能的裝置. 以光伏效應(yīng)工作的晶硅太陽(yáng)能電池

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  上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用通常安裝兩個(gè)離子源主要濺射沉積源和二次預(yù)清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應(yīng)性