清遠鉻靶材報價

時間：2024-09-29作者：東莞市鼎偉新材料有限公司瀏覽：319

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  詞條說明

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  氧化鋯靶材：高性能材料的核心秘密 氧化鋯靶材是薄膜沉積技術中的關鍵材料，廣泛應用于半導體、光學鍍膜、太陽能電池等領域。它的高熔點、優異的化學穩定性以及良好的機械強度，使其成為高端鍍膜工藝的首選。 高熔點與穩定性 氧化鋯的熔點高達2700℃，遠高于普通金屬氧化物，這使得它在高溫環境下仍能保持穩定。在濺射鍍膜過程中，靶材需要承受高能粒子的轟擊，而氧化鋯的耐高溫特性確保了鍍膜過程的穩定性和均勻性。此外，