氦質譜檢漏儀 MPCVD 檢漏, 實現金剛石膜制備

時間：2023-04-12

作者：伯東企業（上海）有限公司

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詞條說明
KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜
立方氮化硼（cBN）由于具有高的硬度/ 好的化學惰性/ 較好的熱穩定性/ 高的熱導率/ 在寬波長范圍內(約從 200nm 開始) 有很好的透光性/ 可摻雜為 n 型和 p 型半導體等特點, 在切削工具/ 材料/ 光學元件表面涂層/ 高溫/ 高頻/ 大功率/ 抗輻射電子器件/ 電路熱沉材料和絕緣涂覆層等方面具有很大的應用潛力.?在對立方氮化硼 (cBN) 薄膜研究中, 西北某金屬研究所采用
HVA 真空閥門用在氣體管路系統
某半導體工廠在生產線上氣體輸送環節的氣體管路系統采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?，作為真空隔離密封.?HVA?是真空技術創新者的真空閥門(插板閥),?是高真空閥門的主要制造商和供應商.?在設計真空系統時,?可以輕松集成?HVA?閥門. HVA?閘閥從5/8英寸（16
美國 HVA 真空閥門選型
上海伯東美國?HVA 真空閥門選型實例產品系列特點口徑HVA 真空閘閥 11000 系列介面, 控制方式全包括DN 16 到 DN 600HVA 真空層流閘閥 13000系列防腐蝕DN 40 到 DN 300HVA 真空層流閘閥 16000系列防顆粒污染DN 40 到 DN 350HVA 矩形閥 21200 系列長使用壽命DN 16 到 DN 300HVA 3位真空閘閥 21700系列有
KRI 離子源用于鍍制1064nm窄帶濾光片激光膜
?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片是在各類玻璃材質表面通過特殊的鍍膜工藝而形成的光學元件, 可以從入射光中選取任意所需求的波長, 半峰值一般在 5nm~50nm之間, 具有波長定位準確、透過高、截止深、溫漂小、性好、光潔度好的特點, 是激光設備應用中常見的濾光片解決方案.?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片使用在