上海伯東KRI 離子源在鍺基紅外鍍膜中的應(yīng)用

時間：2024-01-10作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：60

伯東企業(yè)（上海）有限公司專注于pfeiffer,氦質(zhì)譜檢漏儀,inTEST等

• 詞條

  詞條說明

• HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機(jī)

  國內(nèi)某?OLED?鍍膜機(jī)廠家配置伯東美國?HVA?真空閥門?11000?系列，尺寸以?4”, 6”, 8”閥門口徑為主的標(biāo)準(zhǔn)不銹鋼氣動高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??下圖是某?OLED?鍍膜機(jī)廠家配置上海伯東美

• KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜

  合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室在對硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學(xué)性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n

• 分子泵組玻璃封管抽真空進(jìn)行金屬燒結(jié)試驗(yàn)

  Pfeiffer?分子泵組玻璃封管抽真空進(jìn)行金屬燒結(jié)試驗(yàn)上海伯東德國 Pfeiffer 經(jīng)濟(jì)型分子泵組?Hicube 80 Eco 成功應(yīng)用于玻璃封管抽真空, 進(jìn)行金屬燒結(jié)試驗(yàn), 主要應(yīng)用如下:系統(tǒng)真空度要求: 10-4 mbar1. 玻璃管內(nèi)放置金屬材料2. 利用分子泵組提供穩(wěn)定的真空, 封住玻璃管, 抽走多余的空氣和水汽, 減少水, 氧, 氮等氣體對燒結(jié)的不良影響, 然后對

• 美國 HVA 真空閥門選型

  上海伯東美國?HVA 真空閥門選型實(shí)例產(chǎn)品系列特點(diǎn)口徑HVA 真空閘閥 11000 系列介面, 控制方式全包括DN 16 到 DN 600HVA 真空層流閘閥 13000系列防腐蝕DN 40 到 DN 300HVA 真空層流閘閥 16000系列防顆粒污染DN 40 到 DN 350HVA 矩形閥 21200 系列長使用壽命DN 16 到 DN 300HVA 3位真空閘閥 21700系列