KRI 離子源用于UVC人機(jī)共存紫外濾光片鍍膜

時(shí)間：2024-01-10作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：41

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• HVA 真空閥門(mén)應(yīng)用于E-Beam鍍膜機(jī)

  某?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機(jī)系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門(mén)?11000, HVA?真空閥門(mén)安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時(shí)外系統(tǒng)停機(jī)時(shí)不破壞系統(tǒng)真空,?只要對(duì)泵內(nèi)部進(jìn)行破真空即可.HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格:??閥門(mén)材質(zhì):&nb

• KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜

  立方氮化硼（cBN）由于具有高的硬度/ 好的化學(xué)惰性/ 較好的熱穩(wěn)定性/ 高的熱導(dǎo)率/ 在寬波長(zhǎng)范圍內(nèi)(約從 200nm 開(kāi)始) 有很好的透光性/ 可摻雜為 n 型和 p 型半導(dǎo)體等特點(diǎn), 在切削工具/ 材料/ 光學(xué)元件表面涂層/ 高溫/ 高頻/ 大功率/ 抗輻射電子器件/ 電路熱沉材料和絕緣涂覆層等方面具有很大的應(yīng)用潛力.?在對(duì)立方氮化硼 (cBN) 薄膜研究中, 西北某金屬研究所采用

• 氦質(zhì)譜檢漏儀真空鍍膜配氣面板檢漏

  氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340?真空鍍膜配氣面板檢漏上海伯東某客戶(hù)生產(chǎn)高純度特種氣體不銹鋼減壓閥門(mén), 接頭, 管件, 這些配件主要用于集成在真空鍍膜配氣面板, 實(shí)現(xiàn)工藝氣體的傳輸. 為了防止氣體外泄, 除了閥門(mén), 接頭, 管件需要單檢漏外, 整個(gè)配氣面板也需要測(cè)試整體漏率, 使用上海伯東德國(guó) Pfeiffer?氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340, 真空模式下, 漏率設(shè)置為 5.5x

• HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)E-Beam 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)用于在半導(dǎo)體, 光學(xué), **導(dǎo)材料等行業(yè)的研究與生產(chǎn), 比如基片蒸發(fā)沉積金屬, 導(dǎo)電薄膜, 半導(dǎo)體薄膜, 鐵電薄膜, 光學(xué)薄膜和介質(zhì)材料.E-Beam 鍍膜機(jī)設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子, 進(jìn)樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái), 工作氣