PVD涂層對工件表面的要求

時間：2022-05-14作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：233

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  詞條說明

• 磁控濺射鍍膜設(shè)備的優(yōu)點和缺點有哪些？

  在真空鍍膜技術(shù)中，磁控濺射鍍膜技術(shù)屬于比較常見的一種鍍膜技術(shù)。今天，廣東真空鍍膜設(shè)備廠家就告訴大家，磁控濺射鍍膜技術(shù)的優(yōu)點和缺點： 1、沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷小； 2、對于大部分材料，只要能制成靶材，就可以實現(xiàn)濺射； 3、濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合較好； 4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好； 5、濺射工藝可重復(fù)性好，可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜； 6、能夠控制

• 何時對零件執(zhí)行真空浸漬

  是否應(yīng)該在完成之前或之后進行真空浸漬？粉末涂料，油漆，鉻酸鹽轉(zhuǎn)化和陽極氧化是壓鑄零件的常用表面處理，可改善其性能或外觀。在某些壓鑄應(yīng)用中，組件還必須密封以容納加壓的流體或氣體。公司使用真空浸漬法通過密封內(nèi)部泄漏通道而不會影響鑄件的任何其他特征來滿足這些要求。一般規(guī)則是，在任何表面拋光之前都應(yīng)進行真空浸漬。這將密封孔隙并消除可能因除氣，化學(xué)相容性或預(yù)處理滲出而導(dǎo)致的任何失效模式。以下是在涂飾后進行浸

• 磁控濺射鍍膜設(shè)備

  ? ? ? ? 該設(shè)備集磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體，對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求，可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置，其靶位分布可靈活調(diào)整，膜層均勻性優(yōu)越，配備不同的靶材，可鍍制出性能較好的復(fù)合膜層。設(shè)備所鍍制的膜層具有附著力強，致密性高的優(yōu)點，可有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性、耐磨性及產(chǎn)品表面硬度，滿足了

• 立式濺射鍍膜設(shè)備的優(yōu)勢及應(yīng)用行業(yè)

  立式濺射鍍膜設(shè)備的特點： 1、在真空條件下制備鍍膜環(huán)境清潔，膜層不易受污染，可獲得致密性好，純度高，膜層厚度均勻，易于控制的涂層。 2、膜材的基體材料有廣泛的選擇性，可制備各種不同的功能性涂層。 3、膜的附著強度高，膜層十分牢固，不易脫落。 4、在工藝過程中不產(chǎn)生廢液，減少環(huán)境污染，減少對人體有害的金屬物體，較大程度上實現(xiàn)綠色環(huán)保生產(chǎn)。其中之一的汽車行業(yè) 該設(shè)備的設(shè)計為立式雙門的結(jié)構(gòu)，是一款直流磁