真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的技術(shù)特點(diǎn)有哪些？

時(shí)間：2022-04-23作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：613

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• 電鍍和真空鍍的區(qū)別

  ????電鍍和真空鍍的區(qū)別有哪些？接下來讓我們一起來了解一下，較方便我們猶豫選擇電鍍還是真空鍍的時(shí)候能做出正確的判斷。一、原理上的不同1、電鍍：是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其他金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其他材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場(chǎng)的作用下，經(jīng)電極反應(yīng)還原成金屬原子，并在陰極上進(jìn)行金屬沉積

• 磁控濺射鍍膜設(shè)備

  ? ? ? ? 該設(shè)備集磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體，對(duì)提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求，可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置，其靶位分布可靈活調(diào)整，膜層均勻性優(yōu)越，配備不同的靶材，可鍍制出性能較好的復(fù)合膜層。設(shè)備所鍍制的膜層具有附著力強(qiáng)，致密性高的優(yōu)點(diǎn)，可有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性、耐磨性及產(chǎn)品表面硬度，滿足了

• 真空鍍膜機(jī)哪個(gè)好

  真空鍍膜機(jī)的種類繁多，接下來我們來拿磁控濺射鍍膜機(jī)來舉一下例子：該設(shè)備集控磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體，對(duì)提高顏色一致性，沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求，可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置，其靶位分布可靈活調(diào)整；膜層均勻性優(yōu)越；配備不同的靶材，可鍍制出心梗較好的復(fù)合膜層。設(shè)備所鍍的制的膜層具有附著力強(qiáng)，致密性高的優(yōu)點(diǎn)，可有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性，耐磨性及產(chǎn)品表面

• 磁控濺射鍍膜設(shè)備工作原理

  ? ? ? ? ?磁控濺射是一個(gè)運(yùn)行模式的二級(jí)濺射。它與二，四級(jí)濺射的主要不同點(diǎn)；一是，在濺射的陰極靶后面設(shè)置了*磁鋼或電磁鐵。在靶面上產(chǎn)生水平分量的磁場(chǎng)或垂直分量的磁場(chǎng)，由氣體放電產(chǎn)生的電子被束縛在靶面附近的等離子區(qū)內(nèi)的特定軌道內(nèi)運(yùn)轉(zhuǎn)；受電場(chǎng)力和磁場(chǎng)力的復(fù)合作用，沿一定的跑道作旋轉(zhuǎn)輪轉(zhuǎn)圈。? ? ? ?