小型金屬濺射鍍膜機(jī)優(yōu)點(diǎn)

時(shí)間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：64

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• 真空封口機(jī)產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)及主要問題解答

  怎么判斷哪些東西可以封？1，高溫不熔化。2、高溫下不與石英管產(chǎn)生反應(yīng)。3、液體沒辦法抽真空，液體里又氧氣。對(duì)封管機(jī) 場(chǎng)地的要求？氫氧水焊機(jī)需要通風(fēng)。石英管封口要預(yù)留多長？要留50mm-70mm（石英管內(nèi)如果是熔點(diǎn)低物品，少70），夾頭伸進(jìn)去要30mm。封管機(jī)產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：1、 每個(gè)設(shè)備出廠有經(jīng)過氦質(zhì)譜撿漏測(cè)試確保氣密性?2、 設(shè)備磁流體密封件接觸氣體部分采用陶瓷軸承 高成本帶來的是耐腐蝕（普

• PVD制備K型薄膜熱電偶的研究

  熱電偶元件是在工業(yè)、科研中廣泛使用的一種溫度傳感器,具有測(cè)溫范圍廣,堅(jiān)固耐用,無自發(fā)熱現(xiàn)象,使用方便等優(yōu)點(diǎn)。薄膜熱電偶除了繼承上述普通熱電偶的優(yōu)點(diǎn)外,還具有熱容小,響應(yīng)速度快,幾乎不占用空間,對(duì)被測(cè)物體影響小的優(yōu)點(diǎn)。本研究為制備K型薄膜熱電偶選擇了電子束蒸發(fā)鍍,磁控濺射,多弧離子鍍?nèi)NPVD方法。其中一部分樣片的NiCr/NiSi薄膜均由磁控濺射均由磁控濺射沉積,另一部分樣片的NiCr薄膜由磁控濺

• 小型濺射儀問題解答

  小型濺射儀儀問儀答近小伙伴對(duì)于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問的問題比較多，今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見的技術(shù)問題：1、膜厚檢測(cè)儀原理：膜厚監(jiān)測(cè)儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測(cè)量技術(shù)加上的數(shù)學(xué)算法，進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過程中，對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳 ?但是 鎳是導(dǎo)磁金屬

• 質(zhì)量流量計(jì)為何要進(jìn)行穩(wěn)壓補(bǔ)償

  質(zhì)量流量計(jì)為何要進(jìn)行穩(wěn)壓補(bǔ)償常用的流量計(jì)大多只能夠直接測(cè)量流體的體積，并不能直接測(cè)量質(zhì)量，如果只測(cè)量流體在當(dāng)前工況下的體積時(shí)，質(zhì)量流量計(jì)儀表可以直接顯示出來。但是如果要求流量計(jì)顯示為流體質(zhì)量時(shí)，需要通過計(jì)算即時(shí)采樣的流體體積參數(shù)與密度參數(shù)相乘的積而得出(質(zhì)量=密度X體積)而并非直接測(cè)量出流體的質(zhì)量。質(zhì)量流量計(jì)作為流量儀表，它測(cè)量出來的數(shù)據(jù)一定要準(zhǔn)確，如果要測(cè)量流體的質(zhì)量時(shí)就涉及到一個(gè)問題：就是流體