等離子處理機對彩盒包裝的處理

時間：2022-04-01

作者：煙臺金鷹科技有限公司

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詞條
詞條說明
水處理設備之預處理系統介紹
水處理設備中的預處理系統主要用來過濾原水中的微生物、細菌、膠體、有機物、金屬離子等雜質。通過預處理部分的過濾，可以改善進水水質，保證了反滲透進水的生物穩定性，減少對RO膜的污染，同時預處理系統可進行反沖洗再生還有利于延長RO膜的使用壽命，使反滲透系統長期穩定的工作水處理設備預處理系統詳細說明1、石英砂過濾器石英砂過濾器主要去除水中的懸浮物、膠體、泥沙、粘土、腐植物、顆粒物等雜質，降低水的濁度，達
為什么熔噴布要加裝靜電駐設備
為什么熔噴布需要加裝靜電駐設備?因為熔噴布熔噴無紡布主要用于過濾粉塵、微生物、霧霾等微米級顆粒物，堪稱口罩的“心臟”。需要表面靜電來吸附粉塵顆粒物來增加過濾效果。外科口罩和N95口罩的核心就是中間的那個夾層——熔噴布。口罩的過濾效率和直徑和填充密度有關。如果織得太密，口罩就不透氣，戴的人就很難受。如果不做靜電駐處理，能讓人感覺不會憋死的熔噴布的過濾效率就只有35%，靜電駐處理設備，即靜電發生
等離子清洗機UV/IR鏡片活化處理
玻璃光學鏡片等離子清洗機，樹脂鏡片清潔儀，UV/IR鏡片活化處理利用能量轉換技術，在一定真空負壓的狀態下，以電能將氣體轉化為活性高的氣體等離子體，氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結構的改變，從而達到對樣品表面有機污染物進行清洗，在短時間內有機污染物就被外接真空泵抽走，其清洗能力可以達到分子級。在一定條件下還能使樣品表面特性發生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質，所以能有效避免樣品的再次
等離子清洗機，晶圓加工前的后端封裝工藝
硅片去除光刻膠，一般都是采用等離子處理機的干洗清洗方式，以解決光刻膠問題。半導體等離子清洗機是晶圓加工前的后端封裝工藝，是晶圓扇出、晶圓級封裝、3D封裝、倒裝片和傳統封裝的理想選擇。圓晶封裝前采用等離子體清洗機處理的目的是去除表面層中的無機物，減少氧化層，增加銅表面層的粗糙度，提高產品的可靠性。半導體等離子清洗設備支持直徑75mm至300mm的圓形或方形晶片、基片的自動處理。另外，可以根據晶片的厚